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半導體外延檢測

F20透射電鏡

最大放大: 105萬倍 (1,050,000×)
點分辨率: 0.24 nm
加速電壓: 200KV
極限(信息)分辨率:0.14 nm
最小束斑尺寸:0.2nm
樣品臺: 普通單、雙傾臺,鈹雙傾臺
最大傾轉(zhuǎn)角:±40°
X射線能譜儀元素分析范圍:B5~U92
X射線能譜儀能量分辨率: 130 eV

Tecnai G2 F20 S-TWIN 透射電子顯微鏡是一個真正多功能、多用戶環(huán)境的200KV場發(fā)射透射電子顯微鏡。它將各種透射電鏡技術(shù)(包括TEM、SEAD、STEM、EDX頻譜成像等)方便靈活地有機組合,形成強大的分析功能。利用它可進行:(1)形貌分析,它獲得非晶材料的質(zhì)厚襯度像,多晶材料的衍射襯度像和單晶薄膜的相位襯度像(原子像);(2)結(jié)構(gòu)分析,觀察研究材料結(jié)構(gòu)并對樣品進行納米尺度的微分析,如:高分辨電子顯微觀察,系列欠焦像分析及出射波函數(shù)重構(gòu)、電子衍射,會聚束電子衍射,納米束衍射、Z-襯度(原子序數(shù))成像等。成分分析:小到幾個納米尺度的微區(qū)或晶粒的成分分析。


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