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型號：sigma300

關鍵詞:場發射掃描、掃描電鏡、SEM、FESEM、掃描

產地：德國蔡司

詳細內容：

（1）中文名稱：場發射掃描電子顯微鏡；英文名稱：FE-SEM

（2）生產廠商:德國卡爾·蔡司股份公司；型號：Zeiss Sigma 300

（3）主要功能及應用：高分辨率微區形貌分析及成像，結合能譜儀可進行半定量分析；被廣泛應用于材料科學(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害(火災、失效分析)鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等領域。

（4）主要技術指標：

分辨率：SE：1.0nm（15kV），1.6nm（1kV）

加速電壓：20V~30kV，連續可調，每檔10 V連續可調，無需模式更換

電子槍：肖特基熱場發射電子槍

電子束流：最大束流不小于20 nA

放大倍數：10~1000000 (底片放大倍率)，根據加速電壓和工作距離的改變，放大倍數自動校準。

樣品臺移動范圍：125 mm（X方向），125 mm（Y方向），50 mm（Z方向），-10°-90°（傾斜），360°（旋轉），樣品臺移動精度：≤2μm

真空系統：樣品室真空度：高真空模式優于 2×10-4 Pa；

能譜儀：電制冷牛津40mm2能譜儀

數字圖像記錄系統：圖像儲存分辨率：最大32 k×24 k像素，圖像顯示：1240×768 像素；圖像記錄：TIFF, BMP或JPEG。

（5）可測試項目：噴金、微觀形貌、能譜（點掃、線掃、面掃）

噴金：導電性差、不導電樣品需先噴金后測試

形貌：一般取2個位置，共8~10張圖片左右

能譜：元素范圍Be~U

（6）送樣要求：

需提供詳細樣品信息:樣品成分、名稱、形態、導電性、拍攝放大倍數/標尺要求、相應的參考圖

（7）收費標準聯系方式：